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Crystal Orientation C/M0.2 50mm Sapphire Substrate Wafer Thk 420um

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Crystal Orientation C/M0.2 50mm Sapphire Substrate Wafer Thk 420um

Crystal Orientation C/M0.2 50mm Sapphire Substrate Wafer Thk 420um
Crystal Orientation C/M0.2 50mm Sapphire Substrate Wafer Thk 420um

Großes Bild :  Crystal Orientation C/M0.2 50mm Sapphire Substrate Wafer Thk 420um

Produktdetails:
Modellnummer: JDCD08-001-001
Zahlung und Versand AGB:
Verpackung Informationen: Vakuumverpackung in einer Reinraumumgebung der Klasse 10000, in Kassetten mit 25 Stück oder Einzelwa
Zahlungsbedingungen: T/T

Crystal Orientation C/M0.2 50mm Sapphire Substrate Wafer Thk 420um

Beschreibung
Oberflächenorientierung: Ein-Fläche (11-20) Material: Hoher Reinheitsgrad Al ₂ O ₃ (>99.995%)
Stärke: 430 ±15μm R-Fläche: R9
Oblatenrand: R-artig Produktname: Sapphire Substrate Wafer
Hervorheben:

Sapphire Substrate Wafer R9

,

Monokristallsaphirsubstrat

,

420um Sapphire Substrate

Crystal Orientation C/M0.2 50mm Sapphire Substrate Wafer Thk 430μm

JDCD08-001-001 Saphirsubstratoblate des Durchmesser-50mm, Thk 430μm, Kristallrichtung C/M0.2, der Länge (Millimeter) 16 LED-Chip, Substratmaterial

Saphiroblaten werden in der Optoelektronikindustrie heute und in den mechanischen Teilen der Präzision und in der Vakuumausrüstung benutzt. Außer der Form wie bereits erwähnt, haben wir sie in allen Standardorientierungen; wir können kundenspezifische Richtung auf Antrag und genauen Spezifikationen auch liefern. Die Wafergröße, die für im Bereich von 2 bis 6 Zoll für alle Standardarten auch verfügbar sind, dünnen Wafer unten bis 250μm für 2 Zoll, 300μm für 4 Zoll und 300μm für den 6-Zoll- Wafer verfügbar ist, ist in der Runde und in der quadratischen Form verfügbar; Größenstrecken von 10 x 10 Millimeter zu 100 x 100 Millimeter. Wir bieten komplette Orientierungswahlen einschließlich c-Fläche, eine Fläche, r-Fläche und m-Fläche, mit überlegenem Oberflächenendera an < 5="" A="" and="" high="" cleanliness="">

Parameter

Spezifikation
Einheit Ziel Toleranz
Material Hoher Reinheitsgrad Al2 O3 (>99.995%)
Durchmesser Millimeter 50,8 ±0.10
Stärke μm 430 ±15
Oberflächenorientierung C-Fläche (0001)
- Weg vom Winkel in Richtung zur M-Achse Grad 0,20 ±0.10
- Weg vom Winkel in Richtung zur Ein-Achse Grad 0,00 ±0.10
Flache Orientierung Ein-Fläche (11-20)
- Flacher Offsetwinkel Grad 0,0 ±0.2
Flache Länge Millimeter 16,0 ±1
R-Fläche R9
Vordere Oberflächenrauigkeit (Ra) Nanometer <0.3
Hintere Oberflächenrauigkeit μm 0.8~1.2μm
Vordere Oberflächenbeschaffenheit Spiegel polierte, EPI-bereit
Oblatenrand R-artig
Abschrägungsumfang μm 80-160
Öffnungswinkeleinheitswinkel zwischen flachem Rand und rundem Rand Millimeter R=9
TTV μm ≤5
LTV (5x5mm) μm ≤1.5
Bogen μm 0~-5
Verzerrung μm ≤10
Laser-Kennzeichen Wie Kunde erfordert

Über uns

Wir spezialisieren uns, auf, eine Vielzahl von Materialien zu den Oblaten, zu Substraten und zu kundengebundenem optischem Glas-parts.components zu verarbeiten, die auf Elektronik, Optik, Opto Elektronik und vielen anderen Gebieten weitverbreitet sind. Wir auch haben nah mit vielen inländischen gearbeitet und Überseeuniversitäten, Forschungsinstitutionen und Firmen, stellen kundengebundene Produkt und Service für ihre R&D-Projekte zur Verfügung. Es ist unsere Vision zum Beibehalten eines guten Verhältnisses von Zusammenarbeit mit unseren allen Kunden durch unsere guten Rufe.

FAQ

Q: Sind Sie Handelsgesellschaft oder Hersteller?
Wir sind Fabrik.
Q: Wie lang ist Ihre Lieferfrist?
Im Allgemeinen ist es 3-5 Tage, wenn die Waren auf Lager sind.
oder es ist 7-10 Tage, wenn die Waren nicht auf Lager sind, es ist entsprechend Quantität.
Q: Stellen Sie Proben zur Verfügung? ist es frei oder Extra?
Ja könnten wir, die Probe für freie Gebühr anbieten aber tragen nicht die Frachtkosten.
Q: Was ist Ihre Zahlungsfristen?
Zahlungs- <> Zahlung >=5000USD, 80% T/T im Voraus, Balance vor Versand.

Kontaktdaten
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Ansprechpartner: Xiwen Bai (Ciel)

Telefon: +8613372109561

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