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Spiegel polierte Sapphire Wafer EPI bereiter Front Surface

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Spiegel polierte Sapphire Wafer EPI bereiter Front Surface

Spiegel polierte Sapphire Wafer EPI bereiter Front Surface
Spiegel polierte Sapphire Wafer EPI bereiter Front Surface

Großes Bild :  Spiegel polierte Sapphire Wafer EPI bereiter Front Surface

Produktdetails:
Modellnummer: JDCD08-001-001
Zahlung und Versand AGB:
Verpackung Informationen: Vakuumverpackung in einer Reinraumumgebung der Klasse 10000, in Kassetten mit 25 Stück oder Einzelwa
Zahlungsbedingungen: T/T

Spiegel polierte Sapphire Wafer EPI bereiter Front Surface

Beschreibung
Oberflächenorientierung: Ein-Fläche (11-20) Material: Hoher Reinheitsgrad Al ₂ O ₃ μm (>99.995%)
Stärke: 430 ±10μm R-Fläche: R9
Durchmesser: 50,8 ±0.10 Oblatenrand: R-artig
Hervorheben:

Hochglanzpolierter Saphir-Wafer

,

R9-Einkristall-Saphir

,

Einkristall-Saphir-Wafer

50 mm Saphir-Substrat-Wafer, spiegelpoliert, EPI-fähige Vorderseitenqualität

JDCD08-001-001 Durchmesser 50 mm Saphir-Substratwafer, Dicke 430 μm, Kristallorientierung C/M0.2, OF-Länge (mm) 16 LED-Chip, Substratmaterial

Dieses Material ist bei verschiedenen Anbietern auf dem Markt zu unterschiedlichen Preisen erhältlich.Es gibt eine Reihe von Websites, auf denen diese verkauft werden.Qualität ist natürlich ebenso wichtig wie der Preis, zu dem sie erhältlich ist.Das Substrat wird aus Saphir hergestellt, einem Material mit einer einzigartigen Kombination aus chemischen, optischen und physikalischen Eigenschaften.Saphir ist sehr widerstandsfähig gegen Temperaturschocks, hohe Temperaturen, Sanderosion und Wasser.Seine Wärmeleitfähigkeit ist auch bei niedrigen Temperaturen sehr gut.

 

Parameter

Spezifikation
Einheit Ziel Toleranz
Material Hochreines Al2Ö3(>99,995%)
Durchmesser mm 50.8 ±0,10
Dicke μm 430 ±10
Oberflächenorientierung C-Flugzeug(0001)
-Off-Winkel zur M-Achse Grad 0,20 ±0,10
-Off-Winkel zur A-Achse Grad 0.00 ±0,10
Flache Ausrichtung A-Flugzeug(11-20)
-Flacher Offset-Winkel Grad 0,0 ±0,2
Flache Länge mm 16.0 ±1
R-Ebene R9
Rauheit der Vorderfläche (Ra) nm <0.3
Rauheit der Rückseite μm 0,8 ~ 1,2 μm
Qualität der Vorderseite Hochglanzpoliert, EPI-bereit
Wafer-Rand R-Typ
Fasenamplitude μm 80-160
Eingeschlossener Bogenradiant zwischen flacher Kante und runder Kante mm R=9
TTV μm ≤5
LTV (5 x 5 mm) μm ≤1,5
Bogen μm 0~-5
Kette μm ≤10
Lasermarkierung   Wie vom Kunden gefordert

 

 

Über uns

Wir sind spezialisiert auf die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien zu Wafern, Substraten und kundenspezifischen optischen Glasteilen. Komponenten, die in der Elektronik, Optik, Optoelektronik und vielen anderen Bereichen weit verbreitet sind.Wir haben auch eng mit vielen inländischen und ausländischen Universitäten, Forschungseinrichtungen und Unternehmen zusammengearbeitet und bieten maßgeschneiderte Produkte und Dienstleistungen für ihre F&E-Projekte an.Es ist unsere Vision, durch unseren guten Ruf eine gute Beziehung der Zusammenarbeit mit allen unseren Kunden aufrechtzuerhalten.

 

 

FAQ

F: Sind Sie Handelsunternehmen oder Hersteller?
Wir sind Fabrik.
F: Wie lange ist Ihre Lieferzeit?
In der Regel sind es 3-5 Tage, wenn die Ware auf Lager ist.
oder es ist 7-10 Tage, wenn die Ware nicht auf Lager ist, es ist nach Menge.
F: Stellen Sie Proben zur Verfügung?Ist es kostenlos oder extra?
Ja, wir könnten das Muster kostenlos anbieten, zahlen aber nicht die Frachtkosten.
F: Wie lauten Ihre Zahlungsbedingungen?
Zahlung <=5000USD, 100% im Voraus.
Paymen >=5000USD, 80% T/T im Voraus, Restbetrag vor Versand.

 

Kontaktdaten
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Ansprechpartner: Xiwen Bai (Ciel)

Telefon: +8613372109561

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