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Produktdetails:
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| Orientierung: | （010）(201) | Maße: | 10*10mm; 10*15mm |
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| Produktname: | Einzelner Crystal Substrate | Doping: | UID |
| FWHM: | <350arcsec> | Ra: | ≤0.5nm |
| Hervorheben: | 10x10mm Oblate Ga2O3,10x15mm einzelne Kristallscheibe,Ga2O3 Oblate 10x15mm |
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10 x 15 mm2(-201)UID-dotiertes freistehendes Ga2Ö3Einkristallsubstrat Einzelpolierung in Produktqualität Dicke 0,6 ~ 0,8 mm FWHM < 350 Bogensekunden, Ra ≤ 0,5 nm Widerstand 4,13 E + 17 Ω / cm-3Optoelektronische Bauelemente, Isolierschichten aus Halbleitermaterialien und UV-Filter
Mit erhöhter Energieeffizienz, kleineren erforderlichen Arbeitsteilen und einer höheren Schaltfrequenz wird die Leistungsdichte erhöht, was, wenn alle diese Faktoren berücksichtigt werden, zu viel höheren Gerätegeschwindigkeiten führt.Die Rechenleistung ist im Vergleich zu siliziumbasierten Geräten stark erhöht.Wenn Sie also ein Gallium-Gerät mit einem Silizium-Gerät vergleichen, sind die Verarbeitungsgeschwindigkeiten auf dem Gallium-Nitrid-Gerät merklich höher.
| Galliumnitridsubstrat – Forschungsebene | ||
| Maße | 10*10mm | 10*15mm |
| Dicke | 0,6 ~ 0,8 mm | |
| Orientierung | (010) | (201) |
| Doping | UID | |
| Polierte Oberfläche | Einseitig poliert | |
| Widerstand/Nd-Na | / | 4.13E+17 |
| FWHM | <350 arcsec | |
| Ra | ≤0,5nm | |
| Paket | Verpackt in einer Reinraumumgebung der Klasse 100 unter Stickstoffatmosphäre | |
Über uns
Wir sind spezialisiert auf die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien zu Wafern, Substraten und kundenspezifischen optischen Glasteilen. Komponenten, die in der Elektronik, Optik, Optoelektronik und vielen anderen Bereichen weit verbreitet sind.Wir haben auch eng mit vielen inländischen und ausländischen Universitäten, Forschungseinrichtungen und Unternehmen zusammengearbeitet und bieten maßgeschneiderte Produkte und Dienstleistungen für ihre F&E-Projekte an.Es ist unsere Vision, durch unseren guten Ruf eine gute Beziehung der Zusammenarbeit mit allen unseren Kunden aufrechtzuerhalten.
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