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JDCD08-001-002 2inch Ein-Fläche Sapphire Substrate Wafer

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JDCD08-001-002 2inch Ein-Fläche Sapphire Substrate Wafer

JDCD08-001-002 2inch Ein-Fläche Sapphire Substrate Wafer
JDCD08-001-002 2inch Ein-Fläche Sapphire Substrate Wafer

Großes Bild :  JDCD08-001-002 2inch Ein-Fläche Sapphire Substrate Wafer

Produktdetails:
Modellnummer: JDCD08-001-002
Zahlung und Versand AGB:
Verpackung Informationen: Vakuumverpackung in einer Reinraumumgebung der Klasse 10000, in Kassetten mit 25 Stück oder Einzelwa
Zahlungsbedingungen: T/T

JDCD08-001-002 2inch Ein-Fläche Sapphire Substrate Wafer

Beschreibung
Oberflächenorientierung: Ein-Fläche (11-20) Stärke: 430 ± 10 μm
R-Fläche: R9 Durchmesser: 50.8±0.10mm
Material: Hoher Reinheitsgrad Al2O3 (>99.995%)

JDCD08-001-002 2inch Ein-Fläche Sapphire Substrate Wafer

Der hohe Reinheitsgrad und die Stärke des Saphirs ist ein ausgezeichnetes und von der Industrie akzeptiertes Material für Halbleiterherstellung. Seine Haltbarkeit und Kratzfestigkeit lassen Saphirideal, damit Vakuumumwelt und hoher Plasmawiderstand Radierung widersteht.
Saphir ist ein Oxid, das mit einer hohen Wärmeleitfähigkeit Kristall ist, die mit der des Edelstahls bei Zimmertemperatur vergleichbar ist.

Parameter

Spezifikation
Einheit Ziel Toleranz
Material Hoher Reinheitsgrad Al2O3 (>99.995%)
Durchmesser Millimeter 50,8 ±0.10
Stärke μm 430 ±10
Oberflächenorientierung Ein-Fläche (11-20)
- Weg vom Winkel in Richtung zur M-Achse Grad 0,00 ±0.10
- Weg vom Winkel in Richtung zur Ein-Achse Grad 0,00 ±0.10
Flache Orientierung C-Fläche (0001)
- Flacher Offsetwinkel Grad 0,0 ±0.2
Flache Länge Millimeter 16,0 ±1
R-Fläche R9
Vordere Oberflächenrauigkeit (Ra) Nanometer <0.3
Hintere Oberflächenrauigkeit μm 0.9~1.2μm
Vordere Oberflächenbeschaffenheit Spiegel polierte, EPI-bereit
Oblatenrand R-artig
Abschrägungsumfang μm 80-160
Öffnungswinkeleinheitswinkel zwischen flachem Rand und rundem Rand Millimeter R=9
TTV μm ≤5
LTV (5x5mm) μm ≤1.5
Bogen μm 0~-5
Verzerrung μm ≤10
Laser-Kennzeichen Wie Kunde erfordert

Über uns

Wir spezialisieren uns, auf, eine Vielzahl von Materialien zu den Oblaten, zu Substraten und zu kundengebundenem optischem Glas-parts.components zu verarbeiten, die auf Elektronik, Optik, Opto Elektronik und vielen anderen Gebieten weitverbreitet sind. Wir auch haben nah mit vielen inländischen gearbeitet und Überseeuniversitäten, Forschungsinstitutionen und Firmen, stellen kundengebundene Produkt und Service für ihre R&D-Projekte zur Verfügung. Es ist unsere Vision zum Beibehalten eines guten Verhältnisses von Zusammenarbeit mit unseren allen Kunden durch unsere guten Rufe.

FAQ

Q: Sind Sie Handelsgesellschaft oder Hersteller?
Wir sind Fabrik.
Q: Wie lang ist Ihre Lieferfrist?
Im Allgemeinen ist es 3-5 Tage, wenn die Waren auf Lager sind.
oder es ist 7-10 Tage, wenn die Waren nicht auf Lager sind, es ist entsprechend Quantität.
Q: Stellen Sie Proben zur Verfügung? ist es frei oder Extra?
Ja könnten wir, die Probe für freie Gebühr anbieten aber tragen nicht die Frachtkosten.
Q: Was ist Ihre Zahlungsfristen?
Zahlungs- <> Zahlung >=5000USD, 80% T/T im Voraus, Balance vor Versand.

Kontaktdaten
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Ansprechpartner: Xiwen Bai (Ciel)

Telefon: +8613372109561

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